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文檔簡介
1、本文基于雙極工藝和MEMS技術在SOI片(器件層為n型<100>晶向高阻硅)上設計、制作非對稱基區(qū)晶體管溫度補償壓力傳感器,壓敏結構由C型硅杯和方形硅膜上四個p型擴散壓敏電阻構成的惠斯通電橋組成,溫度補償結構由非對稱基區(qū)晶體管構成。當施加壓力P時,方形硅膜發(fā)生彈性形變,壓敏電阻阻值改變導致惠斯通電橋輸出電壓發(fā)生變化,理論分析給出,壓敏結構可實現(xiàn)外加壓力P的測量。利用PN結導通電壓溫度系數(shù)為負,采用非對稱基區(qū)晶體管結構對壓力傳感器靈敏度負
2、溫度系數(shù)進行溫度補償,通過改變基區(qū)電阻的比例,實現(xiàn)補償優(yōu)化。基于ANSYS軟件構建壓力傳感器結構仿真模型,研究硅膜形狀、尺寸對傳感器特性影響,并結合MATLAB計算方形硅膜上電阻的位置分布,進行具有溫度補償結構壓力傳感器優(yōu)化設計。
本文采用L-Edit軟件實現(xiàn)芯片版圖設計,并在SOI片上實現(xiàn)具有溫度補償結構壓力傳感器芯片制作和封裝,通過采用全自動壓力變送器測試系統(tǒng)(AmericanMensor CPC6000)、高低溫實驗箱(
3、OBIS GDJS-100LG-G)和壓力測試盤等搭建的測試系統(tǒng),對非對稱基區(qū)晶體管溫度補償壓力傳感器進行特性研究。實驗結果給出,在室溫條件下,供電電壓5.0 V,壓力傳感器靈敏度為0.227 mV/kPa;溫度范圍為-40℃到100℃變化時,該壓力傳感器的靈敏度溫度漂移為-1862 ppm/℃,補償后靈敏度溫度漂移為-1067 ppm/℃;對非對稱基區(qū)晶體管進行優(yōu)化設計,最終補償后靈敏度溫度漂移為-127 ppm/℃。研究結果表明,本
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